ログイン
言語:

WEKO3

  • トップ
  • ランキング
To
lat lon distance
To

Field does not validate



インデックスリンク

インデックスツリー

メールアドレスを入力してください。

WEKO

One fine body…

WEKO

One fine body…

アイテム

  1. 工学部
  1. 工学部
  2. 紀要掲載論文 (工学部)
  1. 工学部
  2. 紀要掲載論文 (工学部)
  3. 宮崎大學工學部紀要
  1. 工学部
  2. 紀要掲載論文 (工学部)
  3. 宮崎大學工學部紀要
  4. 37号

原子層エピタキシー法により作製したGaAs薄膜の評価

http://hdl.handle.net/10458/1626
http://hdl.handle.net/10458/1626
c5555d80-ef67-4fcb-9dfc-d71dace552a7
名前 / ファイル ライセンス アクション
KJ00005016021.pdf KJ00005016021.pdf (182.3 kB)
Item type 紀要論文 / Departmental Bulletin Paper(1)
公開日 2008-11-11
タイトル
タイトル 原子層エピタキシー法により作製したGaAs薄膜の評価
言語 ja
タイトル
タイトル Growth condition of Homoepitaxial GaAs layers grown by Atomic Layer Epitaxy
言語 en
言語
言語 jpn
キーワード
言語 en
主題Scheme Other
主題 atomic layer epitaxy, GaAs, homoepitaxial growth, Photoluminescence, Raman scattering, Coupled Plasmon-LO-Phonon modes
資源タイプ
資源タイプ識別子 http://purl.org/coar/resource_type/c_6501
資源タイプ departmental bulletin paper
その他(別言語等)のタイトル
その他のタイトル ゲンシソウ エピタキシーホウ ニ ヨリ サクセイ シタ GaAsハクマク ノ ヒョウカ
言語 ja-Kana
著者 藤田, 陽

× 藤田, 陽

WEKO 14030

ja 藤田, 陽

ja-Kana フジタ, アキラ

en Fujita, Akira

Search repository
川野, 雅史

× 川野, 雅史

WEKO 14031

川野, 雅史

ja-Kana カワノ, マサシ

Search repository
陣内, 宏基

× 陣内, 宏基

WEKO 14032

ja 陣内, 宏基

ja-Kana ジンナイ, ヒロノリ

Search repository
前田, 幸治

× 前田, 幸治

WEKO 12047
e-Rad_Researcher 50219268

ja 前田, 幸治
宮崎大学

ja-Kana マエダ, コウジ

en Maeda, Koji
University of Miyazaki

Search repository
尾関, 雅志

× 尾関, 雅志

WEKO 11920

ja 尾関, 雅志

ja-Kana オゼキ, マサシ

en Ozeki, Masashi

Search repository
藤田, 陽

× 藤田, 陽

WEKO 14030

ja 藤田, 陽

ja-Kana フジタ, アキラ

en Fujita, Akira

Search repository
Kawano, Masashi

× Kawano, Masashi

WEKO 14036

en Kawano, Masashi

Search repository
Jinnai, Hironori

× Jinnai, Hironori

WEKO 14037

en Jinnai, Hironori

Search repository
抄録
内容記述タイプ Abstract
内容記述 Homoepitaxial GaAs layers grown on GaAs(001) by atomic layer epitaxy(ALE) technic are investigated. Growth temperatures are at 460, 500 and 540℃. Carrer concentrations of films were evaluated by a hall measurement technic and the parameter of fitting from Raman spectrum assumed by coupled plasmon-LO-phonon modes. The hole concentration was a maximum value at 500℃ growth intensity of photoluminescence at 10K has a maximum at 500℃ growth film. Hull width at half maximum of the LO phonon mode in raman spectrum also showed at the minimum the temperature.The growth temperature is suitable at 500℃ for GaAs film by ALE.
言語 en
bibliographic_information ja : 宮崎大学工学部紀要
en : Memoirs of Faculty of Engineering, University of Miyazaki

巻 37, p. 197-200, 発行日 2008-08-30
出版者
出版者 宮崎大学工学部
言語 ja
出版者
出版者 Faculty of Engineering, University of Miyazaki
言語 en
ISSN
収録物識別子タイプ ISSN
収録物識別子 05404924
item_10002_source_id_11
収録物識別子タイプ NCID
収録物識別子 AA00732558
出版タイプ
出版タイプ VoR
出版タイプResource http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85
戻る
0
views
See details
Views

Versions

Ver.2 2023-07-29 23:47:17.234908
Ver.1 2023-05-15 10:38:35.714171
Show All versions

Share

Mendeley Twitter Facebook Print Addthis

Cite as

エクスポート

OAI-PMH
  • OAI-PMH JPCOAR 2.0
  • OAI-PMH JPCOAR 1.0
  • OAI-PMH DublinCore
  • OAI-PMH DDI
Other Formats
  • JSON
  • BIBTEX

Confirm


Powered by WEKO3


Powered by WEKO3