WEKO3
アイテム
低圧高周波プラズマCVDにおける薄膜形成装置の開発
http://hdl.handle.net/10458/5016
http://hdl.handle.net/10458/5016a31d2d73-3a2a-4ca3-80a0-113fcac3bb0f
| Item type | 会議発表論文 / Conference Paper(1) | |||||
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| 公開日 | 2020-06-21 | |||||
| タイトル | ||||||
| タイトル | Development of Low-Pressure High-Frequency Plasma Chemical Vapor by Thin Film Deposition System | |||||
| 言語 | en | |||||
| タイトル | ||||||
| タイトル | 低圧高周波プラズマCVDにおける薄膜形成装置の開発 | |||||
| 言語 | ja | |||||
| 言語 | ||||||
| 言語 | eng | |||||
| キーワード | ||||||
| 言語 | ja | |||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | Ar+O_2混合ガス, フレキシブル太陽電池, プラズマCVD, 表面処理, 低圧, Argon+Oxygen mixture gas, Flexible solar cell, Plasma CVD, Surface treatment, low-pressure | |||||
| 資源タイプ | ||||||
| 資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_5794 | |||||
| 資源タイプ | conference paper | |||||
| アクセス権 | ||||||
| アクセス権 | metadata only access | |||||
| アクセス権URI | http://purl.org/coar/access_right/c_14cb | |||||
| 著者 |
津田, 勇
× 津田, 勇× 湯地, 敏史× 木之下, 広幸× 岡村, 好美× Nuchuay, Peerapong× Thungsuk, Nuttee× Mungkung, Narong× Kasayapanand, Nat× 津田, 勇 |
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| 書誌情報 |
ja : プラズマ研究会資料 en : The Papers of Technical Meeting on Plasma Science and Technology, IEE Japan 巻 2014, 号 29, p. 53-58, 発行日 2014-05 |
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| 出版者 | ||||||
| 出版者 | 電気学会 | |||||
| 言語 | ja | |||||
