ログイン
言語:

WEKO3

  • トップ
  • ランキング
To
lat lon distance
To

Field does not validate



インデックスリンク

インデックスツリー

メールアドレスを入力してください。

WEKO

One fine body…

WEKO

One fine body…

アイテム

  1. 工学部
  1. 工学部
  2. 紀要掲載論文 (工学部)
  1. 工学部
  2. 紀要掲載論文 (工学部)
  3. 宮崎大學工學部紀要
  1. 工学部
  2. 紀要掲載論文 (工学部)
  3. 宮崎大學工學部紀要
  4. 38号

ラマン分光法及びX線回折法を用いた太陽電池用シリコン薄膜の結晶性評価

http://hdl.handle.net/10458/2386
http://hdl.handle.net/10458/2386
5f914eb5-748e-40e5-a4a7-525e126012ba
名前 / ファイル ライセンス アクション
KJ00005629819.pdf KJ00005629819.pdf (2.3 MB)
Item type 紀要論文 / Departmental Bulletin Paper(1)
公開日 2009-10-29
タイトル
タイトル ラマン分光法及びX線回折法を用いた太陽電池用シリコン薄膜の結晶性評価
言語 ja
タイトル
タイトル Crystallinity of uc-Si films for solar cell application studied by Raman spectroscopy and X-ray diffraction methods
言語 en
言語
言語 jpn
キーワード
言語 en
主題Scheme Other
主題 uc-Si, Thin film solar cells, Raman, XRD, Crystallinity, Grain size
資源タイプ
資源タイプ識別子 http://purl.org/coar/resource_type/c_6501
資源タイプ departmental bulletin paper
その他(別言語等)のタイトル
その他のタイトル ラマン ブンコウホウ オヨビ エックスセンカイセツホウ オ モチイタ タイヨウデンチ ヨウ シリコンハクマク ノ ケッショウセイ ヒョウカ
著者 奥田, 浩章

× 奥田, 浩章

WEKO 15377

ja 奥田, 浩章

ja-Kana オクダ, ヒロアキ

Search repository
片地, 秀蔵

× 片地, 秀蔵

WEKO 15378

ja 片地, 秀蔵

ja-Kana カタチ, シュウゾウ

Search repository
前田, 幸治

× 前田, 幸治

WEKO 12047
e-Rad_Researcher 50219268

ja 前田, 幸治
宮崎大学

ja-Kana マエダ, コウジ

en Maeda, Koji
University of Miyazaki

Search repository
西岡, 賢祐

× 西岡, 賢祐

WEKO 13733
e-Rad_Researcher 00377441

ja 西岡, 賢祐
宮崎大学

ja-Kana ニシオカ, ケンスケ

en Nishioka , Kensuke
University of Miyazaki

Search repository
Okuda, Hiroaki

× Okuda, Hiroaki

WEKO 15381

en Okuda, Hiroaki

Search repository
Katachi, Shuzo

× Katachi, Shuzo

WEKO 15382

en Katachi, Shuzo

Search repository
Nishioka, Kensuke

× Nishioka, Kensuke

WEKO 13738

en Nishioka, Kensuke

Search repository
抄録
内容記述タイプ Abstract
内容記述 Structural analyses on microcrystalline silicon (μc-Si) films for thin-film silicon solar cell applications prepared by plasma CVD method were studied. Raman spectroscopy and X-ray diffraction method (XRD) were used. The crystallinities of μc-Si films were decided by the intensity ratio in the separated peak of the Raman spectra. Grain size of <111> direction obtained by XRD increased as the crystallinity of the film increased. The crystalline face of μc-Si oriented <111> direction to the substrate. The distribution of c-Si in the film was evaluated Raman spectrum excited from the three kind of wavelength lasers which have the different penetration depth. We could show nondestructively that the crystallinity of film is increased as closing upon the front surface.
言語 en
bibliographic_information ja : 宮崎大学工学部紀要
en : Memoirs of Faculty of Engineering, University of Miyazaki

巻 38, p. 103-107, 発行日 2009-09-30
出版者
出版者 宮崎大学工学部
言語 ja
出版者
出版者 Faculty of Engineering, University of Miyazaki
言語 en
ISSN
収録物識別子タイプ ISSN
収録物識別子 05404924
item_10002_source_id_11
収録物識別子タイプ NCID
収録物識別子 AA00732558
出版タイプ
出版タイプ VoR
出版タイプResource http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85
戻る
0
views
See details
Views

Versions

Ver.2 2023-07-30 02:57:57.535459
Ver.1 2023-05-15 11:02:52.266500
Show All versions

Share

Mendeley Twitter Facebook Print Addthis

Cite as

エクスポート

OAI-PMH
  • OAI-PMH JPCOAR 2.0
  • OAI-PMH JPCOAR 1.0
  • OAI-PMH DublinCore
  • OAI-PMH DDI
Other Formats
  • JSON
  • BIBTEX

Confirm


Powered by WEKO3


Powered by WEKO3