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  1. 工学部
  1. 工学部
  2. 紀要掲載論文 (工学部)
  1. 工学部
  2. 紀要掲載論文 (工学部)
  3. 宮崎大學工學部紀要
  1. 工学部
  2. 紀要掲載論文 (工学部)
  3. 宮崎大學工學部紀要
  4. 45号

GaAsN 薄膜の原子層エピタキシー成長におけるドーパンドSi 供給順序が電気特性に与える影響

http://hdl.handle.net/10458/5883
http://hdl.handle.net/10458/5883
b1ae5b52-8d2a-4bb1-b094-8b1a7ef7020c
名前 / ファイル ライセンス アクション
p115.pdf 本文 (701.4 kB)
アイテムタイプ 紀要論文 / Departmental Bulletin Paper(1)
公開日 2020-06-21
タイトル
タイトル GaAsN 薄膜の原子層エピタキシー成長におけるドーパンドSi 供給順序が電気特性に与える影響
言語 ja
タイトル
タイトル Effects of Si Dopant Gas Flow Sequence on Electrical Properties of GaAsN Films Grown by ALE
言語 en
言語
言語 jpn
キーワード
言語 en
主題Scheme Other
主題 ALE, Si-doped GaAsN, Sequence, Hall, Electrical Properties
資源タイプ
資源タイプ識別子 http://purl.org/coar/resource_type/c_6501
資源タイプ departmental bulletin paper
著者 堀切, 将

× 堀切, 将

WEKO 27262

ja 堀切, 将

ja-Kana ホリキリ, マサル

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横山, 祐貴

× 横山, 祐貴

WEKO 27205

ja 横山, 祐貴


ja-Kana ヨコヤマ, ユウキ

en Yokoyama, Yuki
Yokoyama, Yuuki

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鈴木, 秀俊

× 鈴木, 秀俊

WEKO 14196
e-Rad_Researcher 00387854

ja 鈴木, 秀俊
宮崎大学

ja-Kana スズキ, ヒデトシ

en Suzuki, Hidetoshi
University of Miyazaki

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碇, 哲雄

× 碇, 哲雄

WEKO 7290
e-Rad_Researcher 70113214

ja 碇, 哲雄
宮崎大学

ja-Kana イカリ, テツオ

en Ikari, Tetsuo
University of Miyazaki

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福山, 敦彦

× 福山, 敦彦

WEKO 7289
e-Rad_Researcher 10264368

ja 福山, 敦彦
宮崎大学

ja-Kana フクヤマ, アツヒコ

en Fukuyama, Atsuhiko
University of Miyazaki

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Horikiri, Masaru

× Horikiri, Masaru

WEKO 27267

en Horikiri, Masaru

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横山, 祐貴

× 横山, 祐貴

WEKO 27205

ja 横山, 祐貴


ja-Kana ヨコヤマ, ユウキ

en Yokoyama, Yuki
Yokoyama, Yuuki

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抄録
内容記述タイプ Abstract
内容記述 The effects of Si dopant gas flow sequence on electrical properties of GaAsN films have been investigated. The Si-doped and non-doped GaAsN films were grown on semi-insulating GaAs(001) substrate at substrate temperatures of 480, 500 and 520 oC by atomic layer epitaxy (ALE). The non-doped GaAsN films grown by ALE were p-type due to residual carbon atoms worked as acceptor. The Si doped films were also p-type, however carrier density and mobility were smaller than those of the non-doped films. The difference on carrier density between non-doped and Si-doped films was consistent with Si concenteration in the films. Decrease of carrier mobility could be explained by increasing ionized scattering caused by Si. These suggested that Si atoms worked as donor.
言語 en
書誌情報 ja : 宮崎大学工学部紀要
en : Memoirs of Faculty of Engineering, University of Miyazaki

巻 45, p. 115-118, 発行日 2016-07-31
出版者
出版者 宮崎大学工学部
言語 ja
出版者
出版者 Faculty of Engineering, University of Miyazaki
言語 en
ISSN
収録物識別子タイプ ISSN
収録物識別子 05404924
書誌レコードID
収録物識別子タイプ NCID
収録物識別子 AA00732558
著者版フラグ
出版タイプ VoR
出版タイプResource http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85
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Ver.2 2023-07-30 04:20:36.105402
Ver.1 2023-05-15 10:53:01.558920
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