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  1. 工学部
  1. 工学部
  2. 紀要掲載論文 (工学部)
  1. 工学部
  2. 紀要掲載論文 (工学部)
  3. 宮崎大學工學部紀要
  1. 工学部
  2. 紀要掲載論文 (工学部)
  3. 宮崎大學工學部紀要
  4. 35号

真空紫外光CVD法によるSiNx薄膜の低温作製

http://hdl.handle.net/10458/424
http://hdl.handle.net/10458/424
11698c21-6538-4931-84d8-cb4e64d8e274
名前 / ファイル ライセンス アクション
KJ00004439499.pdf KJ00004439499.pdf (763.9 kB)
Item type 紀要論文 / Departmental Bulletin Paper(1)
公開日 2007-06-28
タイトル
タイトル 真空紫外光CVD法によるSiNx薄膜の低温作製
言語 ja
タイトル
タイトル SiNx thin film modification at low temperature by Vacuum ultraviolet-CVD method
言語 en
言語
言語 jpn
キーワード
言語 en
主題Scheme Other
主題 VUV-CVD, Ar2 excimer lamp, SiNx film, SiH4, NH3, photo-annealing
資源タイプ
資源タイプ識別子 http://purl.org/coar/resource_type/c_6501
資源タイプ departmental bulletin paper
その他(別言語等)のタイトル
その他のタイトル シンクウ シガイコウ CVDホウ ニ ヨル SiNx ハクマク ノ テイオン サクセイ
言語 ja-Kana
著者 甘利, 紘一

× 甘利, 紘一

WEKO 12431

ja 甘利, 紘一

ja-Kana アマリ, コウイチ

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石村, 想

× 石村, 想

WEKO 12432

石村, 想

ja-Kana イシムラ, ソウ

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横谷, 篤至

× 横谷, 篤至

WEKO 12038
e-Rad 00183989

ja 横谷, 篤至

ja-Kana ヨコタニ, アツシ

en Yokotani, Atsushi

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Amari, Kohichi

× Amari, Kohichi

WEKO 12434

en Amari, Kohichi

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Ishimura, So

× Ishimura, So

WEKO 12435

en Ishimura, So

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抄録
内容記述タイプ Abstract
内容記述 Abstract
We have developed a fabrication technique of SiNx films which is expected to use for diffusion
protector of ultra thin gate oxide films in high density ICs for next generation by means of the
VUV-CVD method. Using an Ar2* excimer lamp as a light source and SiH4 and NH3 as row materials,
we could successfully obtained SiNx films at room temperature. The films obtained at a substrate
temperature above 80℃ were chemically stable, whereas below 80℃ the obtained films are gradually
decomposed and changed into SiOx film in the air ambient. For such an unstable film deposited at
50℃, we have found that photo-annealing by Ar2* excimer lamp after the deposition was quite
effective to stabilize the chemical component of the film.
言語 en
書誌情報 ja : 宮崎大学工学部紀要
en : Memoirs of Faculty of Engineering, University of Miyazaki

巻 35, p. 119-123, 発行日 2006-08-30
出版者
出版者 宮崎大学工学部
言語 ja
出版者
出版者 Faculty of Engineering, University of Miyazaki
言語 en
ISSN
収録物識別子タイプ ISSN
収録物識別子 05404924
書誌レコードID
収録物識別子タイプ NCID
収録物識別子 AA00732558
著者版フラグ
出版タイプ VoR
出版タイプResource http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85
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Ver.8 2023-07-30 05:30:50.205878
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Ver.4 2023-07-29 23:32:34.339618
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Ver.2 2023-07-29 10:40:07.116524
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