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Effect of RF power on the fabrication of ZnO films using open-air atmospheric pressure cold plasma
http://hdl.handle.net/10458/3244
http://hdl.handle.net/10458/3244138605e5-bde3-4e32-93af-c493d5de4a60
| Item type | 学術雑誌論文 / Journal Article(1) | |||||
|---|---|---|---|---|---|---|
| 公開日 | 2011-05-18 | |||||
| タイトル | ||||||
| タイトル | Effect of RF power on the fabrication of ZnO films using open-air atmospheric pressure cold plasma | |||||
| 言語 | en | |||||
| 言語 | ||||||
| 言語 | eng | |||||
| キーワード | ||||||
| 言語 | en | |||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| キーワード | Zinc oxide, Plasma deposition, Atmospheric cold plasma, Helium gas, Oxygen gas | |||||
| 資源タイプ | ||||||
| 資源タイプ | journal article | |||||
| アクセス権 | ||||||
| 著者 |
須崎, 嘉文
× 須崎, 嘉文× Kawaguchi, Akiou× Murase, Takehiko× 湯地, 敏史× Shikama, Tomokazu× Shin, Dong-Bum× Kim, Yoon-Kee |
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| 書誌情報 |
en : Frontier of Applied Plasma Technology 巻 3, 号 2, p. 97-101, 発行日 2010-07 |
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| 出版者 | ||||||
| 出版者 | IAPS : Institute of Applied plasma science | |||||
| 言語 | en | |||||
| ISSN | ||||||
| 収録物識別子タイプ | ISSN | |||||
| 収録物識別子 | 18835589 | |||||
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Cite as
須崎, 嘉文, Kawaguchi, Akiou, Murase, Takehiko, 湯地, 敏史, Shikama, Tomokazu, Shin, Dong-Bum, Kim, Yoon-Kee, 2010, Effect of RF power on the fabrication of ZnO films using open-air atmospheric pressure cold plasma: IAPS : Institute of Applied plasma science, 97–101 p.
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