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Dependence of Al concentration on Al doped ZnO films prepared by using atmospheric presure cold plasma
http://hdl.handle.net/10458/3149
http://hdl.handle.net/10458/3149e2f7a17c-6c2d-45f1-8757-42f00de010e7
| Item type | 学術雑誌論文 / Journal Article(1) | |||||
|---|---|---|---|---|---|---|
| 公開日 | 2010-11-15 | |||||
| タイトル | ||||||
| タイトル | Dependence of Al concentration on Al doped ZnO films prepared by using atmospheric presure cold plasma | |||||
| 言語 | en | |||||
| 言語 | ||||||
| 言語 | eng | |||||
| 資源タイプ | ||||||
| 資源タイプ | journal article | |||||
| アクセス権 | ||||||
| 著者 |
須崎, 嘉文
× 須崎, 嘉文× Miyagawa, Hayato× Obika, Atsuo× Kawaguchi, Akiou× Shikama, Tomokazu× 湯地, 敏史 |
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| 書誌情報 |
en : Frontier of applied plasma technology 巻 3, 号 1, p. 23-28, 発行日 2010 |
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| 出版者 | ||||||
| 出版者 | IAPS : Institute of Applied plasma science | |||||
| 言語 | en | |||||
| ISSN | ||||||
| 収録物識別子タイプ | ISSN | |||||
| 収録物識別子 | 18835589 | |||||
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Cite as
須崎, 嘉文, Miyagawa, Hayato, Obika, Atsuo, Kawaguchi, Akiou, Shikama, Tomokazu, 湯地, 敏史, 2010, Dependence of Al concentration on Al doped ZnO films prepared by using atmospheric presure cold plasma: IAPS : Institute of Applied plasma science, 23–28 p.
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