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Effect of Oxygen Flow Rate on Fabrication of ZnO Thin Films by Using Atmospheric Pressure Helium Cold Plasma
http://hdl.handle.net/10458/2793
http://hdl.handle.net/10458/2793bedc098f-f587-4a36-9fd1-d95031fdbe43
| Item type | 学術雑誌論文 / Journal Article(1) | |||||
|---|---|---|---|---|---|---|
| 公開日 | 2010-05-14 | |||||
| タイトル | ||||||
| タイトル | Effect of Oxygen Flow Rate on Fabrication of ZnO Thin Films by Using Atmospheric Pressure Helium Cold Plasma | |||||
| 言語 | en | |||||
| 言語 | ||||||
| 言語 | eng | |||||
| 資源タイプ | ||||||
| 資源タイプ | journal article | |||||
| アクセス権 | ||||||
| 著者 |
Suzaki, Y
× Suzaki, Y× Eijima, S× Obika, A× Sawamura, Y× 湯地, 敏史 |
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| 書誌情報 |
en : Frontier of Applied Plasma Technology 巻 2, p. 83-86, 発行日 2009 |
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| 出版者 | ||||||
| 出版者 | IAPS:institute of applied plasma science | |||||
| 言語 | en | |||||
| ISSN | ||||||
| 収録物識別子タイプ | ISSN | |||||
| 収録物識別子 | 18835589 | |||||
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Cite as
Suzaki, Y, Eijima, S, Obika, A, Sawamura, Y, 湯地, 敏史, 2009, Effect of Oxygen Flow Rate on Fabrication of ZnO Thin Films by Using Atmospheric Pressure Helium Cold Plasma: IAPS:institute of applied plasma science, 83–86 p.
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