Effect of Oxygen Flow Rate on Fabrication of ZnO Thin Films by Using Atmospheric Pressure Helium Cold Plasma

Suzaki, Y; Eijima, S; Obika, A; Sawamura, Y; 湯地, 敏史; ユジ, トシフミ; Yuji, Toshifumi; Yuji, Tosifumi

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Effect of Oxygen Flow Rate on Fabrication of ZnO Thin Films by Using Atmospheric Pressure Helium Cold Plasma

http://hdl.handle.net/10458/2793

アイテムタイプ

学術雑誌論文 / Journal Article(1)

公開日

2010-05-14

タイトル

Effect of Oxygen Flow Rate on Fabrication of ZnO Thin Films by Using Atmospheric Pressure Helium Cold Plasma

言語

eng

資源タイプ

journal article

アクセス権

metadata only access

著者

Suzaki, Y
Eijima, S
Obika, A
Sawamura, Y
湯地, 敏史

WEKO 24
e-Rad_Researcher 80418988

ja	湯地, 敏史宮崎大学
ja-Kana	ユジ, トシフミ
en	Yuji, Toshifumi Yuji, Tosifumi University of Miyazaki

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書誌情報

en : Frontier of Applied Plasma Technology

巻 2, p. 83-86, 発行日 2009

出版者

IAPS:institute of applied plasma science

言語

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収録物識別子タイプ

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18835589

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2023-05-15 10:30:58.956775

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