WEKO3
アイテム
Effect of Oxygen Flow Rate on Fabrication of ZnO Thin Films by Using Atmospheric Pressure Helium Cold Plasma
http://hdl.handle.net/10458/2793
http://hdl.handle.net/10458/2793bedc098f-f587-4a36-9fd1-d95031fdbe43
| Item type | 学術雑誌論文 / Journal Article(1) | |||||
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| 公開日 | 2010-05-14 | |||||
| タイトル | ||||||
| タイトル | Effect of Oxygen Flow Rate on Fabrication of ZnO Thin Films by Using Atmospheric Pressure Helium Cold Plasma | |||||
| 言語 | en | |||||
| 言語 | ||||||
| 言語 | eng | |||||
| 資源タイプ | ||||||
| 資源タイプ | journal article | |||||
| アクセス権 | ||||||
| 著者 |
Suzaki, Y
× Suzaki, Y× Eijima, S× Obika, A× Sawamura, Y× 湯地, 敏史 |
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| 書誌情報 |
en : Frontier of Applied Plasma Technology 巻 2, p. 83-86, 発行日 2009 |
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| 出版者 | ||||||
| 出版者 | IAPS:institute of applied plasma science | |||||
| 言語 | en | |||||
| ISSN | ||||||
| 収録物識別子タイプ | ISSN | |||||
| 収録物識別子 | 18835589 | |||||
