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  1. 工学部
  1. 工学部
  2. 学術雑誌掲載論文 (工学部)

Photothermal microscopy of silicon epitaxial layer on silicon substrate with depletion region at the interface

http://hdl.handle.net/10458/5200
http://hdl.handle.net/10458/5200
ea8038ba-19f1-40a2-9aa2-f41e6bf87fd1
アイテムタイプ 学術雑誌論文 / Journal Article(1)
公開日 2020-06-21
タイトル
タイトル Photothermal microscopy of silicon epitaxial layer on silicon substrate with depletion region at the interface
言語 en
言語
言語 eng
キーワード
言語 en
キーワード Photothermal effects, Epitaxy, Semiconductor surfaces, Silicon, Interface diffusion
資源タイプ
資源タイプ journal article
アクセス権
アクセス権 metadata only access
著者 碇, 哲雄

× 碇, 哲雄

WEKO 7290
e-Rad_Researcher 70113214

ja 碇, 哲雄
宮崎大学

ja-Kana イカリ, テツオ

en Ikari, Tetsuo
University of Miyazaki

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Roger, J. P.

× Roger, J. P.

WEKO 23061

en Roger, J. P.

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Fournier, D

× Fournier, D

WEKO 23062

en Fournier, D

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書誌情報 Review of Scientific Instruments

巻 74, 号 1, p. 553-555, 発行日 2003-01
出版者
出版者 American Institute of Physics
ISSN
収録物識別子タイプ ISSN
収録物識別子 00346748
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Ver.1 2023-05-15 11:12:26.266184
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