ログイン
言語:

WEKO3

  • トップ
  • ランキング
To

Field does not validate



インデックスリンク

インデックスツリー

  • RootNode

メールアドレスを入力してください。

WEKO

One fine body…

WEKO

One fine body…

アイテム

  1. 工学部
  1. 工学部
  2. 紀要掲載論文 (工学部)
  1. 工学部
  2. 紀要掲載論文 (工学部)
  3. 宮崎大學工學部紀要
  1. 工学部
  2. 紀要掲載論文 (工学部)
  3. 宮崎大學工學部紀要
  4. 39号

Adsorption and Self-limiting Mechanisms of Trimethylaluminum and Water on Aluminum Oxide Surface

http://hdl.handle.net/10458/3202
http://hdl.handle.net/10458/3202
2b6fb00e-09f6-48c6-ab94-f1e5a3a57226
名前 / ファイル ライセンス アクション
engineering39-19.pdf engineering39-19.pdf (239.6 kB)
Item type 紀要論文 / Departmental Bulletin Paper(1)
公開日 2011-02-25
タイトル
タイトル Adsorption and Self-limiting Mechanisms of Trimethylaluminum and Water on Aluminum Oxide Surface
言語 en
言語
言語 eng
キーワード
言語 en
主題Scheme Other
主題 Atomic-layer-epitaxy, Self-limiting mechanism, γ-Al2O3, Adsorption
資源タイプ
資源タイプ識別子 http://purl.org/coar/resource_type/c_6501
資源タイプ departmental bulletin paper
著者 Ozeki, Masashi

× Ozeki, Masashi

WEKO 11920

en Ozeki, Masashi

Search repository
原口, 智宏

× 原口, 智宏

WEKO 28621

ja 原口, 智宏

ja-Kana ハラグチ, トモヒロ

en Haraguchi, Tomohiro


Search repository
Hirakawa, Keisuke

× Hirakawa, Keisuke

WEKO 15701

en Hirakawa, Keisuke

Search repository
Uwai, Kohei

× Uwai, Kohei

WEKO 15702

en Uwai, Kohei

Search repository
抄録
内容記述タイプ Abstract
内容記述 The adsorption processes of (CH3) 3Al (TMA) and H2O on γ-Al2O3 have been studied to obtain the basic data on the self-limiting mechanism in the atomic layer epitaxy (ALE). The reactant species, TMA and H2O, were transported onto heated Al2O3 surface with the hydrogen carrier gas. The adsorption rate, as a function of the surface coverage of aluminum or oxygen, was estimated from the reactant exposure-time dependence of the deposition thickness of γ-Al2O3. The aluminum and oxygen coverage dependence of the adsorption rate suggested that the TMA and H2O were adsorbed by a precursor-mediated mechanism. The ALE of γ-Al2O3 was investigated on the basis of the adsorption data. The self-limiting mechanism, which automatically stopped the growth at just one monolayer of γ-Al2O3 (001), was observed in the TMA and H2O exposure-duration dependences. A growth model of the γ-Al2O3 ALE successfully explained the growth rate.
言語 en
書誌情報 ja : 宮崎大学工学部紀要
en : Memoirs of Faculty of Engineering, University of Miyazaki

巻 39, p. 117-124, 発行日 2010-09-30
出版者
出版者 宮崎大学工学部
言語 ja
出版者
出版者 Faculty of Engineering, University of Miyazaki
言語 en
ISSN
収録物識別子タイプ ISSN
収録物識別子 05404924
書誌レコードID
収録物識別子タイプ NCID
収録物識別子 AA00732558
著者版フラグ
出版タイプ VoR
出版タイプResource http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85
戻る
0
views
See details
Views

Versions

Ver.2 2023-07-30 05:15:06.195713
Ver.1 2023-05-15 12:12:43.031347
Show All versions

Share

Mendeley Twitter Facebook Print Addthis

Cite as

Ozeki, Masashi, 原口, 智宏, Hirakawa, Keisuke, Uwai, Kohei, 2010, Adsorption and Self-limiting Mechanisms of Trimethylaluminum and Water on Aluminum Oxide Surface: 宮崎大学工学部, 117–124 p.

エクスポート

OAI-PMH
  • OAI-PMH JPCOAR 2.0
  • OAI-PMH JPCOAR 1.0
  • OAI-PMH DublinCore
  • OAI-PMH DDI
Other Formats
  • JSON
  • BIBTEX

Confirm


Powered by WEKO3


Powered by WEKO3