WEKO3
アイテム
分子イオン注入技術によりゲッタリング能力を付与した高感度CMOSイメージセンサ向けSiウェーハ
http://hdl.handle.net/10458/0002000074
http://hdl.handle.net/10458/000200007431dac9a9-33b4-425a-bbac-67f8ed55197f
| 名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
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博士学位論文 (5.3 MB)
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学位論文の要旨 (115 KB)
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論文審査結果の要旨 (173 KB)
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| Item type | 学位論文 / Thesis or Dissertation(1) | |||||
|---|---|---|---|---|---|---|
| 公開日 | 2023-09-19 | |||||
| タイトル | ||||||
| タイトル | 分子イオン注入技術によりゲッタリング能力を付与した高感度CMOSイメージセンサ向けSiウェーハ | |||||
| 言語 | ja | |||||
| 言語 | ||||||
| 言語 | jpn | |||||
| 資源タイプ | ||||||
| 資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_db06 | |||||
| 資源タイプ | doctoral thesis | |||||
| アクセス権 | ||||||
| アクセス権 | open access | |||||
| アクセス権URI | http://purl.org/coar/access_right/c_abf2 | |||||
| 著者 |
門野, 武
× 門野, 武 |
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| 内容記述 | ||||||
| ja | ||||||
| 本論文に関連する発表論文 Kadono T., Okuyama R., Onaka-Masada A., Hirose R., Shigematsu S., Koga Y., Okuda H., Kurita K. Effect of hydrocarbon molecular ion size for amorphous region formation analyzed by X-ray photoelectron spectroscopy (2020) Japanese Journal of Applied Physics, 59 (2), art. no. 025510, Cited 2 times. DOI: 10.35848/1347-4065/ab6ed5 |
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| 内容記述 | ||||||
| ja | ||||||
| 本論文に関連する発表論文 Takeshi Kadono, Ryosuke Okuyama, Ryo Hirose, Koji Kobayashi, Ayumi Onaka-Masada, Satoshi Shigematsu, Yoshihiro Koga, Hidehiko Okuda, Atsuhiko Fukuyama, Kazunari Kurita, Dissociation Kinetics of Trapped Hydrogen in High-dose Hydrocarbon-Molecular-Ion-Implanted Silicon during Rapid Thermal Annealing, e-Journal of Surface Science and Nanotechnology, 2022, Volume 20, Issue 3, Pages 167-173, Released on J-STAGE August 20, 2022, Advance online publication June 30, 2022, Online ISSN 1348-0391, https://doi.org/10.1380/ejssnt.2022-029, https://www.jstage.jst.go.jp/article/ejssnt/20/3/20_2022-029/_article/-char/en |
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| 内容記述 | ||||||
| ja | ||||||
| 本論文に関連する発表論文 Kadono, T.; Hirose, R.; Onaka-Masada, A.; Kobayashi, K.; Suzuki, A.; Okuyama, R.; Koga, Y.; Fukuyama, A.; Kurita, K. Reduction of White Spot Defects in CMOS Image Sensors Fabricated Using Epitaxial Silicon Wafer with Proximity Gettering Sinks by CH2P Molecular Ion Implantation. Sensors 2022, 22, 8258. https://doi.org/10.3390/s22218258 |
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| 学位名 | ||||||
| 言語 | ja | |||||
| 学位名 | 博士(工学) | |||||
| 学位授与機関 | ||||||
| 学位授与機関識別子Scheme | kakenhi | |||||
| 学位授与機関識別子 | 17601 | |||||
| 言語 | ja | |||||
| 学位授与機関名 | 宮崎大学 | |||||
| 学位授与年度 | ||||||
| 内容記述タイプ | Other | |||||
| 内容記述 | 2023年度 | |||||
| 言語 | ja | |||||
| 学位授与年月日 | ||||||
| 学位授与年月日 | 2023-09-19 | |||||
| 学位授与番号 | ||||||
| 学位授与番号 | 農工総博甲第231号 | |||||
| 著者版フラグ | ||||||
| 出版タイプ | VoR | |||||
| 出版タイプResource | http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85 | |||||
