2026-03-06T14:27:32Z https://miyazaki-u.repo.nii.ac.jp/oai

oai:miyazaki-u.repo.nii.ac.jp:00002454 2023-11-29T00:46:54Z 73 73:36 73:36:330 73:36:330:316

磁気中性線放電プラズマを用いたカーボンナノチューブの作製 Production of Carbon Nanotubes by Neutral Loop Discharge Plasma ジキ チュウセイセン ホウデン プラズマ オ モチイタ カーボン ナノチューブ ノ サクセイ 川尻, 晋平 カワシリ, シンペイ Kawashiri, Shinpei 川尻 カワシリ Kawashiri 晋平 シンペイ Shinpei 楊, 鍾煥 井上, 大士 イノウエ, ダイシ Sung, Youl-Moon Sung, Youl Moon 成, 烈汶 ソン, ヤルブン Sung Sung 成 ソン Youl-Moon Youl Moon 烈汶 ヤルブン 大坪, 昌久 オオツボ, マサヒサ Otsubo, Masahisa 本田, 親久 ホンダ, チカヒサ Honda, Chikahisa 川尻, 晋平 カワシリ, シンペイ Kawashiri, Shinpei 川尻 カワシリ Kawashiri 晋平 シンペイ Shinpei Yang, Jong Hwan Inoue, Daishi Sung, Youl-Moon Sung, Youl Moon 成, 烈汶 ソン, ヤルブン Sung Sung 成 ソン Youl-Moon Youl Moon 烈汶 ヤルブン Neural Loop Discharge(NLD), Carbon Nanotubes(CNT) Recently, the big diameter making of the wafer is rapidly advanced with the ultrafine processing technology of 0.1μm in the minimum in recent semiconductor manufacturing process line width in the process of the semiconductor. Then, the plasma source by which a uniform process in a large area can be done is requested. Then, the NLD (Neutral Loop Discharge) plasma was proposed. Because the NLD plasma can dynamically control impossible plasma in past plasma, a highly effective process can be done. However, it is a current state of being limited from the structure only to the etching field now, We have aimed to pioneer the NLD plasma to a new field by applying a peculiar concept of the NLD plasma to the CNT (Carbon Nanotubes) making. 宮崎大学工学部 Faculty of Engineering, University of Miyazaki 2006-08-30 jpn departmental bulletin paper VoR http://hdl.handle.net/10458/421 https://miyazaki-u.repo.nii.ac.jp/records/2454 AA00732558 05404924 宮崎大学工学部紀要 Memoirs of Faculty of Engineering, University of Miyazaki 35 101 106 https://miyazaki-u.repo.nii.ac.jp/record/2454/files/KJ00004439496.pdf application/pdf 1.5 MB 2020-06-21